화웨이가 자체개발한 EUV 시스템을 시험 중이다, 2025년 3분기에 시험생산 예정이다, 2026년 대량생산을 목표로 하고 있다는 소문이 돌고 있다. 그런데 이 소문의 최초 출처에 첨부된 사진은 EUV 시스템이 아니라 EUV 빔의 정밀도를 보정하는 데 사용되는 간섭계이다. 화웨이에서 EUV 시스템을 시험 중이라면 왜 그 시스템 사진을 첨부하지 않았는가? 더구나 그 소문은 앞뒤가 맞지가 않는다. 한편으로는 화웨이가 이미 EUV 시스템을 시험 중이라고 하고 다른 한편으로는 화웨이가 2025년 3분기에 EUV 시스템을 시험 생산할 예정이라고 한다. 시험 생산할 예정인 EUV 시스템을 시험할 수는 없다. 오직 아직 완전히 갖춰지지 않은 전체 시스템의 일부만을 시험 생산해 시험할 수 있을 뿐이다. 다만 그 일부가 핵심적인 일부일 수는 있다. 신형 전투기를 개발할 때 시제기가 생산되기 전에도 그 전투기에 장착할 엔진은 시험생산이 완료되어 풍동 등에서 시험할 수 있는 것처럼 말이다. 마지막으로, 가장 중요한 사실인데, 정작 화웨이 자신은 이 소문에 대해 아무런 진위확인도 안 해주고 있다. 그런데도 자꾸 소문이 퍼져 이제 기레기들도 마치 사실이기라도 한 것처럼 보도하고 있다. 나같이 중국의 발전을 호의적으로 보는 이들 상당수는 올타구나 하고 호들갑을 떤다. 이런 호들갑은 볼썽 사납다. 화웨이가 '사실이다'라고 컨펌해주기 전에는 권위있는 근거가 전혀 제시되지 않은 소문으로만 대하는 것이 합리적이다. 그런데 물론 인간은 합리적이 되려면 공부와 훈련이 필요한 동물이다. 다만 나는 이 소문이 사실로 밝혀질 가능성이 작지 않다고 본다. 중국에서 ASML의 것과는 다른 광원기술을 사용하는 EUV 시스템의 개발이 진행 중이라는, 소문을 전하는 수준을 넘어서는 기사가 여러 번 떴었다.
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https://x.com/rwang07/status/1900771067800809802

Ray Wang
@rwang07

중국 EUV 역량에 대한 최근의 소문에 대한 분석

*사진 한 장 때문에 호들갑 떨지 말라고 말해왔다....

지난 주말 중국 소셜 미디어에 중국산 EUV 노광 장비 사진이 올라왔고, 이후 서방 소셜 미디어와 외신으로 퍼져나갔다.

사진의 내용으로 미루어 볼 때, 공개된 장비는 완전한 EUV 시스템이 아니라 EUV 빔의 정밀도를 보정하는 데 사용되는 간섭계인 것으로 판단된다.

따라서 중국이 완전한 기능을 갖춘 EUV 시스템을 생산할 수 있는 능력이 있는지 여부는 확인할 수 없다.

또한, 이 정보의 출처는 중국의 국내 생산 EUV 장비가 현재 ASML이 사용하는 LPP(레이저 생산 플라즈마) 기술 대신 LDP(레이저 유도 방전 플라즈마) 기술을 사용할 것이라고 주장한다. LDP는 저에너지 레이저 빔을 사용하여 주석을 구름과 같은 상태로 증발시킨 다음 두 전극 사이에 고전압을 가하여 주석 이온을 이온화하고 전자 충돌을 통해 극자외선을 발생시킨다. 반면 LPP는 초고에너지 레이저 빔을 사용하여 초당 5만 개의 주석 방울을 두 번 연속적으로 타격하여 이온을 형성하고 EUV 광선을 생성한다.

LDP 기술은 비용이 저렴하고 레이저 소스 및 FPGA 칩에 대한 서구 특허 및 수출 규제와 관련된 규제를 피할 수 있다는 장점이 있지만, LDP 전극은 마모 문제가 있어 잦은 유지보수가 필요하다.

또한 LDP의 EUV 광 출력은 덜 안정적이어서 리소그래피 장비의 정밀도에 영향을 미친다(EUV BTW에는 정밀도가 핵심이다). LDP는 2000년대와 2010년대 EUV 개발 단계에서 선도적인 기술이었지만 수율 문제로 인해 개발이 중단되었다.

우리는 중국이 정밀도가 낮고 수율이 낮은 LDP 솔루션을 채택할 경우 중국 내 내수용으로만 적합하고 중국 이외의 첨단 칩 제조업체에게는 매력적이지 않을 것으로 믿는다.

게다가 ASML은 이미 중국에 EUV 장비를 수출하지 못하고 있었는데, 이것은 이 개발이 ASML에 미치는 영향은 미미할 것임을 의미한다.

2025년 3월 15일
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중국 '반도체 자립' 현실화…EUV·GAA 개발해 첨단공정 노린다
https://news.mt.co.kr/mtview.php?no=2025031416502373022

중국의 '반도체 자립'이 현실화하고 있다. 미국의 제재에도 초미세 공정에 필요한 장비·기술 생태계를 자국 내에 구축하면서다. 중국이 레거시 칩 생산뿐만 아니라 최첨단 공정에도 뛰어들 수 있다는 점에서 국내 반도체 업체의 위기감이 커지고 있다.

15일 업계에 따르면 중국은 최근 극자외선(EUV) 노광장비와 게이트올어라운드(GAA) 기술 등을 자체적으로 개발하는 데 성공했다. EUV 자체 개발에 성공한 중국 화웨이는 내년 양산을 목표로 올해 3분기 시험 생산을 앞두고 있다. 최근 베이징대 연구팀이 개발한 2D GAA 기술은 국제학술지 '네이처 머티리얼스'에 게재됐다.

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